아디푸트의 양인자 지문 분해 기술은 보호막 표면에 AFG 유성 분해인자를 첨가해 기름과 땀으로 형성된 지문이 공기에 빠르게 날아가 지문으로 인한 산란과 흐림 등을 줄이는 현상이다. 전통적인 스크럽을 사용하여 지문 가시성을 낮추는 것에 비해 매우 다른 지문 방지 원리로, 기존의 스크럽 소재보다 선명도가 50 배 높아지고 스크럽 소재의 거칠기가 제거됩니다. 더욱 매끄럽고 편안한 사용감을 제공합니다.